1、碳酸钙垢
在阻垢剂添加系统出现故障或加酸系统出现故障而导致给水pH升高,那么碳酸钙就有可能沉积出来。应尽早发现碳酸钙垢沉淀的发生,以防止生长的晶体对膜表面产生损伤,如早期发现碳酸钙垢,可以用降低给水pH至3.0~5.0之间运行1~2小时的方法去除。对沉淀时间更长的碳酸钙垢,则应采用柠檬酸清洗液进行循环清洗或通宵浸泡。
注:应确保任何清洗液的 pH 不要低于2.0,否则可能会对RO膜元件造成损害,特别是在温度较高时更应注意,最高的pH不应高于11.0 。可使用氨水来提高pH,使用硫酸或盐酸来降低 pH 值。
2、硫酸钙垢
三聚磷酸钠溶液是将硫酸钙垢从反渗透膜表面去除掉的好方法。
3、金属氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸钙垢的方法,很容易地去除沉积下来的氢氧化物 。
4、硅垢
对于不是与金属化物或有机物共生的硅垢,一般只有通过专门的清洗方法才能将他们去除。
5、有机沉积物
为了尽可能减少繁殖,可使用杀菌溶液在系统中循环、浸泡,一般需较长时间浸泡才能有效,如反渗透装置停用三天时,最好采用消毒处理。
6、清洗液
清洗反渗透膜元件时建议采用清洗液。确定清洗前对污染物进行化学分析是十分重要的,对分析结果的详细分析比较,可保证选择最佳的清洗剂及清洗方法,应记录每次清洗时清洗方法及获得的清洗效果,为在特定给水条件下,找出最佳的清洗方法提供依据。
清洗时将清洗溶液以低压大流量在膜的高压侧循环,此时膜元件仍装压力容器内而且需要用专门的清洗装置来完成该工作。
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